光刻工艺为半导体制造中非常重要的一道程序，目的是用来定义图案；结合了：光刻胶涂布，软烤，洗边，曝光，显影等程序，这几项程序都会交互影响，进而决定整个工艺的好坏与稳定性。除了设备上的因素，就是使用化学品的问题；日益和提供客户一系列在每一个程序使用的化学品，除了化学品本身的质量保证，同时更提供技术与异常处理的咨询。在光刻工艺的化学品上，符合客户工艺改善与成本需求为我司的一贯目标。